芯片制造工艺制程升级到7nm后应该如何利用Redhawk进行IR Drop和信号完整性分析

芯片制造工艺制程升级到7nm后应该如何利用Redhawk进行IR Drop和信号完整性分析

数字后端实现 8个月前 (10-24) 浏览: 215 评论: 0

  芯片制造工艺制程升级到7nm后应该如何利用Redhawk进行IR Drop和信号完整性分析   要想从半导体工艺节点的发展中受益并非易事。伴随每一代全新工艺节点而来的是众多设计挑战和风险。7nm节点是所有领先晶圆厂目前能提供的最先进工艺。该工艺节点从根本上对基于容限的设计的基本假设提出了挑战。与此同时,它还能提高设计人员能够获得的功耗和性能极限。在不久的将来7nm节点会成为

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